The Low-Temperature Interdiffusion In Compositionally Modulated Nb-Ti Films

A Hu,Yh Wang,Xj Li,Z Yu,D Feng
DOI: https://doi.org/10.1515/9783112501801-024
1986-01-01
Abstract:Compositionally modulated Nb–Ti films are used to measure the interdiffusivity between Nb and Ti at low temperatures (T = 300, 350°C) with X-ray diffraction technique. Agreement is found between the measured interdiffusivities and the extrapolation of high-temperature results made with tracer technique, which revealed the reliability and sensibility of this method. The dependence of the effective interdiffusivity on the modulation wavelength is studied, which agrees well with theoretical results. Kompositionsmodulierte Nb–Ti-Schichten werden zur Messung der Interdiffusion zwischen Nb und Ti bei tiefen Temperaturen (T = 300, 350°C) mit Rontgenbeugungsmethoden gemessen. Es wird Ubereinstimmung zwischen den gemessenen Interdiffusionsvermogen und der Extrapolation der Hochtemperaturergebnisse, die mit der Tracertechnik erhalten werden, gefunden, was die Verlaslichlkeit und Empfindlichkeit dieser Methode zeigt. Die Abhangigkeit der effektiven Interdiffusion von der Modulationswellenlange wird untersucht und gibt gute Ubereinstimmung mit theoretischen Ergebnissen.
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