脉冲激光沉积法(PLD)生长Co掺杂ZnO薄膜及其磁学性能

叶志高,朱立平,彭英姿,叶志镇,何海平,赵炳辉
2008-01-01
Abstract:采用脉冲激光沉积(PLD)法在单晶Si(100)及石英衬底上生长Co掺杂ZnO薄膜,并且比较了不同生长条件下薄膜的性能。实验观察到了700℃、0.02Pa氧压气氛下生长的Co掺杂ZnO薄膜显示室温磁滞回线。采用XRD、SEM等手段对Co掺杂ZnO薄膜的晶体结构及微观形貌进行了分析,得到的ZnO薄膜具有高度的c轴择优取向,结构比较致密,表面平整度较高,并且没有发现Co的相关分相,初步表明Co有效地掺入了ZnO的晶格当中。霍尔测试表明Co掺杂ZnO薄膜样品保持了半导体的电学性能,电阻率为0.04Ω·cm左右。载流子浓度约为10^18/cm^3,迁移率都在18.7cm^2/V·s以上。实验结果表明材料保持了ZnO半导体的性能,并具有室温铁磁性。
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